HIGH TEMPERATURE ANNEALING INFLUENCE ON STRUCTURE AND COMPOSITION OF a-Si/ZrO2 AND a-SiOx/ZrO2 MULTILAYERED NANOPERIODICAL STRUCTURES BY SYNCHROTRON XANES INVESTIGATIONS
Dmitry A. Koyuda, Vladimir A. Terekhov, Alexey V. Ershov and 4 more
Конденсированные среды и межфазные границы · 2018
doi:10.17308/kcmf.2018.20/585 (opens in a new tab)
We email you when a new notice or a question about this paper appears.
Abstract
В работе с использованием синхротронного метода спектроскопии ближней тонкой структуры края рентгеновского поглощения изучено влияние высокотемпературных отжигов в области температур от 500 до 1100 °С на изменение электронного строения и состава многослойных нанопериодических структур a-Si/ZrO2 и a-SiOx/ZrO2. Наблюдаемые различия в тонкой структуре синхротронных спектров кремния объясняются различным окислением кремниевых нанослоев уже в исходных структурах. Показана возможность упорядочения в расположении атомов кремния слоев многослойных нанопериодических структур a-Si/ZrO2 и a-SiOx/ZrO2 при максимальной температуре отжига. Работа выполнена при поддержке Министерства образования и науки Российской федерации в рамках государственного задания ВУЗам в сфере научной деятельности на 2017–2020 гг. – проект № 16.8158.2017/8.9.
Abstract licence: CC BY
Reads
Read by people on this page
None yet.
Checked or read by AI through naulon
None yet.
A person counts once a day per paper. We keep no cookie and no address: a reader is a hash that changes every day. Any month under five reads shows no number.
Are you an author?
Is this your paper?
Claim it to add your note and be paid when agents cite it. Free.